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熔化電子設備 熔化電子設備在水溶性無(wú)機物在低溫及水蒸氣充足的條件下展開(kāi)熔化,水解為CO2和H2O。熔化法適用于于各類(lèi)無(wú)機尾氣,能分為間接熔化電子設備、蒸氣熔化電子設備和催化熔化電子設備。
生物科技煉鐵廠(chǎng)尾氣處置電子設備現貨市場(chǎng)處置方法:
(1)助劑粘附箱
助劑粘附箱主要是利用膠質(zhì)固體粘附劑(霧化、賽璐珞、大異丙醇等)來(lái)處置無(wú)機尾氣,這樣就能夠通過(guò)共價(jià)鍵力或者是大分子引力充分粘附有害成份,并且將其粘附在吸附劑的表面,從而達至再生無(wú)機尾氣的目的。粘附法目前主要應用于大風(fēng)量、低濃度(≤800mg/m3)、無(wú)臭氧、無(wú)黏性物、冷藏的低濃度無(wú)機尾氣再生處置。
助劑再生率高(助劑粘附可達至95%以上),實(shí)用遍及,操縱單純,投資低。在粘附飽和狀態(tài)之后須要更改捷伊助劑,更改助劑須要服務(wù)費,替換下來(lái)的飽和狀態(tài)之后的助劑也是須要找專(zhuān)業(yè)人員展開(kāi)固廢處置,運轉服務(wù)費高。
(2)熔化電子設備
熔化電子設備在水溶性無(wú)機物在低溫及水蒸氣充足的條件下展開(kāi)熔化,水解為CO2和H2O。熔化法適用于于各類(lèi)無(wú)機尾氣,能分為間接熔化電子設備、蒸氣熔化電子設備(RTO)和催化熔化電子設備(RCO)。
排放量濃度大于5000mg/m3的低濃度尾氣通常選用間接熔化電子設備處置,該電子設備將VOCs尾氣作為燃料展開(kāi)熔化,熔化溫度通??刂圃?100℃,處置效率高,能達至95%-99%。
(3)UV裂解再生電子設備
UV裂解再生電子設備利用高能量UV紫外光線(xiàn)雷射水解水蒸氣中的氯離子造成浸潤氧(即活性氧),因浸潤氧所攜帶強子不平衡所以需與氯離子結合,進(jìn)而造成一氧化碳,一氧化碳具有很強的氧化性,通過(guò)一氧化碳對無(wú)機尾氣、臭味液體展開(kāi)協(xié)同裂解呼吸作用,使無(wú)機尾氣、臭味液體物質(zhì)水解轉換成低大分子化合物、CO2和H2O。
能源消耗低,無(wú)需專(zhuān)職人員管理與維護,只需作maintenance。UV裂數學(xué)分析因選用裂解原理,組件采取隔爆處置,消除了隱患,防雷、防爆、防蝕操控性高,電子設備操控性安全穩定,特別適用于于采油(氣)田、石油化工、生物科技等防爆要求高的行業(yè)。
生物科技煉鐵廠(chǎng)尾氣處置電子設備現貨市場(chǎng)電子設備優(yōu)勢:
1、內部結構單純:再生系統包括高能量紫外光組件和復合催化組件構成;
2、運轉時(shí)間長(cháng):該尾氣處置電子設備組織內部結構單純,沒(méi)有管路等部件,電子設備能斷斷續續的運轉數十萬(wàn)小時(shí)。
3、處置范圍廣:低溫激光處置電子設備能處置固體物、固體物、危險品、成份復雜的輕工業(yè)尾氣。
5、電子設備效率高:低溫激光焚燒處置電子設備的成本不到現代的燃氣焚燒RTO的BF之三十。
6、可處置連續性尾氣:有一些尾氣的排放量是斷斷續續的,如單面印刷的無(wú)機尾氣排放量,而現代的RTO技術(shù)是短暫性的。
7、條件溫和:在室溫條件下即可反應,能耗和運轉效率高;
8、無(wú)二次污染:對于處理后的液體可間接排放量,無(wú)需展開(kāi)二次處置,無(wú)異味。
9、使用便利:占地面積小,運轉安全可靠,維護簡(jiǎn)便。
10、高效:VOCs及臭氣在1s內完成,實(shí)現VOCs及臭氣的真正的水解;