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惡臭廢氣處理設備-除臭設備垃圾處理除臭設備惡臭廢氣處理設備-除臭設備

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臭味尾氣處置電子設備的常用的方法有微生物降解法、霧化粘附法、激光法、真菌噴藥液殺蟲(chóng)法等。螢光冷熔化殺蟲(chóng)電子設備適用范圍:食品紡織廠(chǎng)、肉類(lèi)紡織廠(chǎng)、養豬場(chǎng)、家禽飼料場(chǎng)、紡織廠(chǎng)、污水處置廠(chǎng)、垃圾貨運站、糞便處置等無(wú)機和無(wú)機臭味液體的保鮮再生處置。、臭氧產(chǎn)生 借助高能紫外線(xiàn)光束

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臭味尾氣處置電子設備常用的方法有微生物降解法、霧化粘附法、激光法、真菌噴藥液殺蟲(chóng)法等。以下是三種目前G內外比較常用臭味液體處置的殺蟲(chóng)電子設備 1、激光殺蟲(chóng)電子設備 激光法是借助高壓電極發(fā)射離子及電子,破壞惡臭大分子結構的基本原理,轟擊尾氣中臭味大分子,從而乙烯臭味大分子,對低濃度的臭味液體再生效用顯著(zhù),在恒定運轉情況下僅約至80%以上,能處置多種惡臭充分組成的混合液體,不受相對濕度的影響,且無(wú)滲漏;但用電量大,且還須要清灰,運轉保護成本低,對低濃度危險品液體極容易引起爆炸。 2、真菌噴藥液殺蟲(chóng)電子設備 真菌噴藥液殺蟲(chóng)法是透過(guò)向產(chǎn)生臭味液體的空間噴藥真菌提取物將臭味液體進(jìn)行中和、吸收,達至保鮮的目的,殺蟲(chóng)效用低濃度僅約至50%,不同的惡臭選擇不同的噴藥液,需時(shí)常加進(jìn)真菌噴藥液,且需保護電子設備,運轉保護費用高,易導致滲漏。 3、 細菌降解殺蟲(chóng)電子設備 微生物降解法是借助循環(huán)水流將臭味液體中環(huán)境污染化學(xué)物質(zhì)RocoForex水底,再由水底培育床培育出細菌,將水底的環(huán)境污染化學(xué)物質(zhì)降解為低害化學(xué)物質(zhì),殺蟲(chóng)工作效率僅約70%,但受細菌活性影響,培育出來(lái)的細菌只能處置一種或三種相近性質(zhì)的液體,為提高處置工作效率和平衡運轉,必須頻繁加進(jìn)藥劑、控制PH值、溫度等,這樣運轉費用相對比較高,投入人工也比較多,而且微生物一旦死亡將須要較長(cháng)時(shí)間重新培育。(對比分析表詳見(jiàn)附件1) 3、 霧化粘附殺蟲(chóng)電子設備 霧化粘附法是借助助劑內部空隙結構發(fā)達,有巨大比體積基本原理來(lái)粘附透過(guò)助劑池的臭味液體大分子,初期處置工作效率僅約65%,但極容易飽和,通常數日即失效,須要時(shí)常更換,并須要尋找廢棄霧化的處置辦法,運轉保護成本很高,適用于低濃度、大風(fēng)量液體,對醛、脂肪類(lèi)效用較顯著(zhù),但相對濕度大的尾氣效用不顯著(zhù),且容易導致環(huán)境滲漏。 4、 螢光冷熔化殺蟲(chóng)電子設備 螢光冷熔化殺蟲(chóng)電子設備是采用高能UV紫外線(xiàn),在裂解再生電子設備內,乙烯氧化臭味化學(xué)物質(zhì)大分子鏈,改變化學(xué)物質(zhì)結構,將高大分子環(huán)境污染化學(xué)物質(zhì)乙烯等低濃度混合液體,電子設備壽命在十NA以上,該再生技術(shù)可靠且非常平衡,再生電子設備無(wú)須日常保護,只需接通電源即可恒定使用,且運轉成本低,無(wú)滲漏。螢光冷熔化殺蟲(chóng)電子設備適用范圍:食品紡織廠(chǎng)、肉類(lèi)紡織廠(chǎng)、養豬場(chǎng)、家禽飼料場(chǎng)、紡織廠(chǎng)、污水處置廠(chǎng)、垃圾貨運站、糞便處置等無(wú)機和無(wú)機臭味液體的保鮮再生處置。煉油廠(chǎng)、啤酒廠(chǎng)、鐵廠(chǎng)、印刷所、化工廠(chǎng)、西藥廠(chǎng)、金屬鑄造廠(chǎng)、塑料再生廠(chǎng)、噴漆溶劑等無(wú)機和無(wú)機臭味液體的保鮮再生處置。

臭味尾氣處置電子設備生產(chǎn)流程
尾氣透過(guò)引壓縮機抽掉,進(jìn)入水EGR式光降解惡臭處置電子設備,在經(jīng)過(guò)1.2s的光降解后,再進(jìn)入該廠(chǎng)原有的噴淋塔內,在噴淋塔內完成乙烯化學(xué)反應過(guò)程,再垃圾處理、
(1):臭味液體再生處置的工藝圖:
集氣罩-----抽掉管線(xiàn)-----壓縮機-----水EGR氫銨電子設備------化學(xué)反應管線(xiàn)-----坑面
(2):臭味液體再生處置的生產(chǎn)流程圖:
技術(shù)基本原理
:
(1)、本產(chǎn)品借助特制的高能高臭氧雙頻紫外線(xiàn)光束照射臭味液體,改變臭味液體如:丙酮、氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類(lèi),苯、甲苯、二甲苯的大分子鏈結構,使無(wú)機或無(wú)機高大分子臭味化合物大分子鏈,在高能紫外線(xiàn)光束照射下,降解轉變成低大分子無(wú)臭無(wú)害化合物、CO2和H2O。
(2)、臭氧產(chǎn)生
借助高能紫外線(xiàn)光束,使空氣中產(chǎn)生大量的自由電子,這些電子大部分能被氧氣所獲得,形成負氧離子(O3-),負氧離子不平衡,很容易失去一個(gè)電子而變成活性氧(臭氧),臭氧是高級氧化劑,既可以氧化降解無(wú)機物和無(wú)機,對主要惡臭氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯等,都可以與臭氧發(fā)生化學(xué)反應,在臭氧的作用下,這些臭味液體由大大分子化學(xué)物質(zhì)被降解為小大分子化學(xué)物質(zhì),直至礦化。
臭氧產(chǎn)生過(guò)程如下式所示:
2、·OH (羥基自由基)的產(chǎn)生:
本電子設備同時(shí)可借助螢光束與納米級TiO2的作用產(chǎn)生·OH,溶于水底的臭氧也可產(chǎn)生·OH。
·OH(羥基自由基)是*活性的氧化劑之一,氧化能力顯著(zhù)高于普通氧化劑,與臭味液體化學(xué)反應,礦化程度更高。三種氧化劑的氧化電位比較見(jiàn)下表:
氧化劑
化學(xué)反應
氧化電位/V
·OH
·OH+H++e-→H2O
3.06
O3
O3+2H++2e-→O2+H2O
2.07
H2O2
H2O2+2H++2e-→2H2O
1.77
HClO
HClO+H++2e-→Cl-+H2O
1.63
Cl2
Cl2+2e-→2Cl-

1.36
 (3)、光照降解
臭味液體借助排風(fēng)電子設備輸入到本再生電子設備后,再生電子設備運用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對臭味液體進(jìn)行協(xié)同降解氧化化學(xué)反應,使臭味液體化學(xué)物質(zhì)其降解轉化成低大分子化合物、水和二氧化碳,再透過(guò)排風(fēng)管線(xiàn)排出室外。
(4). TiO2氫銨機理
TiO2氫銨材料作為一種N型半導體催化劑,它的禁帶寬度為3.2EV。當它收到波長(cháng)等于或小于387.5NM的光照射時(shí),價(jià)帶的電子就會(huì )受到激發(fā)進(jìn)入導帶,同時(shí)會(huì )在價(jià)帶上形成對應的空穴,即產(chǎn)生光生電子-空穴對。光生電子(e-)具有很強的氧化還原能力,它不僅可以將粘附在半導體顆粒表面的無(wú)機物活化氧化,還能使半導體表面的電子受體被還原。而受激發(fā)產(chǎn)生的光生空穴(h+)則是良好的氧化劑,一般會(huì )透過(guò)與化學(xué)粘附水(H2O)或表面羥基(OH-)化學(xué)反應生成具有很強氧化能力的羥基自由基(?OH)。研究表明羥基自由基幾乎能夠氧化所有無(wú)機物并使之礦化電子設備所產(chǎn)生紫外線(xiàn)光束與納米級TiO2的作用產(chǎn)生·OH。
(5)、光照降解基本原理
借助高能UV光束乙烯臭味液體中細菌的大分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再透過(guò)臭氧進(jìn)行氧化化學(xué)反應,*達至保鮮及殺滅細菌的目的。電子設備內降解
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