富宇環(huán)保是專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)除塵器的廠(chǎng)家，型號齊全，價(jià)格合理，批發(fā)定做，圖片說(shuō)明。訂購熱線(xiàn)：18931717856。

購前須知 ：

本公司集：結構設計、研發(fā)、制造、銷(xiāo)售、施工、售后服務(wù)于一體的綜合性尾氣處置公司；

從事于：各類(lèi)輕工業(yè)尾氣、污水、噪音、煙氣除塵、煙氣altered、通風(fēng)降溫等工程的結構設計、制作、安裝調試；

由于市場(chǎng)價(jià)格浮動(dòng)影響，以上產(chǎn)品價(jià)格、屬性?xún)H供參考

輕工業(yè)光氧催化尾氣處置電子零件設備

本產(chǎn)品借助高一水解碳UV螢光雷射反射臭味液體，乙烯臭味液體如：氨、一氧化碳、甲硫氫、甲吡啶、甲吡啶、三甲二硫、乙醚和丙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、硝基、三硝基的大分子鏈結構，使無(wú)機或無(wú)機高大分子臭味氧化物大分子鏈，在螢光雷射反射下，水解轉變唐仲冕大分子氧化物，如CO2、H2O等。

借助高一水解碳UV螢光雷射降解空氣中的氧大分子造成浸潤氧，即一氧化氮，因浸潤氧發(fā)高強子零件不平衡所以需與氧大分子緊密結合，進(jìn)而造成一水解碳。UV＋O2→O-+O＊(一氧化氮)O+O2→O3(一水解碳),*一水解碳對碳氫氧化物具有*的水解作用，對臭味液體或其它刺激性異味有*的清除效果。

臭味液體借助排煙電子零件設備輸入到本再生電子零件設備后，再生電子零件設備運用 UV螢光雷射及一水解碳對臭味液體進(jìn)行協(xié)同降解水解化學(xué)反應，使臭味液體化學(xué)物質(zhì)其水解轉化唐仲冕大分子氧化物、水和二水解碳，再透過(guò)排煙管道排出室外。

借助 UV雷射乙烯臭味液體中病菌的大分子鍵，破壞病菌的核酸（DNA），再透過(guò)一水解碳進(jìn)行水解化學(xué)反應，達到保鮮及施用病菌的目的。

輕工業(yè)光氧催化尾氣處置電子零件設備工作原理

氫銨通常是指碳氫氧化物在光的作用下，逐步水解唐仲冕大分子中間產(chǎn)物 生成CO2、H2O或其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。碳氫氧化物的光水解可分成直接光水解、間接地光水解。前者是指碳氫氧化物大分子稀釋輻射能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)化學(xué)反應。前者是周?chē)h(huán)境存在的某些化學(xué)物質(zhì)稀釋輻射能成基態(tài)，再誘導一系列無(wú)機污染的化學(xué)反應。間接地光水解對環(huán)境王璽敬生物水解的無(wú)機氮氧化物更為重要。

借助重氮化學(xué)反應水解氮氧化物的途徑，包括無(wú)催化劑和有催化劑參與的重氮水解過(guò)程。前者多選用氧和過(guò)水解氫作為水解劑，在螢光的反射下使氮氧化物水解分解 前者又稱(chēng)氫銨水解，一般可分成均相和物態(tài)催化兩種類(lèi)型。均相氫銨水解中較常用的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，透過(guò)photo-Fenton化學(xué)反應造成·HO使氮氧化物得到水解，物態(tài)氫銨水解中較常用的是在環(huán)境污染體系中投加極少量的對光積體電路材料，同時(shí)緊密結合極少量的反應熱，使對光積體電路在光的反射下激發(fā)造成電子零件-電洞對，吸附在積體電路上的純水、水大分子等與電子零件-電洞作用，造成·HO等水解性*的自由基，再透過(guò)與氮氧化物之間的羥基加和、取代、電子零件轉移式子氮氧化物全數或接近全數substances。

輕工業(yè)光氧催化尾氣處置電子零件設備UV光氧等離子

機能特點(diǎn)：

1. 再生效率高，無(wú)二次環(huán)境污染。

2. 安全穩定，維護方便，使用體積小;

3. 設備投資少，運行成本低

4. 電子零件設備體積小，帕呂奧，工藝成熟;

5. 防火性能選用開(kāi)關(guān)，電源，電路三重自動(dòng)保護，持久的再生機能，無(wú)須專(zhuān)人看管;

6. 具有一次性再生效率高，能同時(shí)再生多種氮氧化物;

四、等離子尾氣再生器適用范圍：