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水解化學(xué)反應環(huán)境溫度低,因此大幅地減緩了水蒸氣中的N2逐步形成高溫NOx。即粘附高純度—催化熔化法。UV氫銨水解尾氣處置電子設備,助劑粘附電子設備,高溫激光尾氣處置電子設備-邯鄲市螞蟻河環(huán)保電子設備股份有限公司
水解化學(xué)反應環(huán)境溫度低,因此大幅地減緩了水蒸氣中的N2逐步形成高溫NOx。因此由于催化劑有特異性四氫吡咯,有可能管制推進(jìn)劑中含亞胺(RNH)的水解操作過(guò)程,使其絕大多數逐步形成大分子氮(N2)
緊接著(zhù)后的液體歷經(jīng)阻火器后步入到催化降解器中,在器高部的混和室中與 高溫水蒸氣(480℃)展開(kāi)混和,使尾氣環(huán)境溫度提升至 300℃以?xún)?,達至催化化學(xué)反應環(huán)境溫度,接著(zhù)氣 流下降至催化化學(xué)反應區,在催化劑表層出現化學(xué)反應,降解為 CO2 和 H2O,在高部的泵排泄。
本再造器是依照粘附(成本低)和催化熔化(節能環(huán)保)三個(gè)基本概念結構設計的。即粘附高純度—催化熔化法。該電子設備選用雙富宇環(huán)?;蚨喔挥瞽h(huán)保已連續組織工作,設三個(gè)或N個(gè)粘附床可交錯采用,兩個(gè)催化噴嘴,先將無(wú)機廢氣用助劑粘附,TNUMBERCCC13達至飽和狀態(tài)時(shí)暫停粘附操作方式,接著(zhù)用熱冷水蒸氣將碳氫化合物從助劑上粘附留下來(lái)使助劑再造;Ahmadabad留下來(lái)的碳氫化合物已被高純度(含量較原本提升幾倍)并送進(jìn)催化噴嘴催化轉換成CO2和H2O排泄,當無(wú)機尾氣需用作到時(shí)候粘附;在A(yíng)hmadabad時(shí),再造操作方式需用另兩個(gè)粘附床展開(kāi),既適合于已連續操作方式,也適合于停歇操作方式。