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UV光氧催化劑水解控制技術(shù)存在的主要問(wèn)題

在UV氫銨水解控制技術(shù)的應用領(lǐng)域中，UV管的可見(jiàn)光、氫銨金屬材料、化學(xué)變化速度、濕度、粉塵微粒等都是影響VOCs處置存亡的困JY不利因素。目前認為氫銨水解能將VOCs完全水解為無(wú)污染的CO2、H2O等。然而，雖然采用化學(xué)變化速度較長(cháng)，水溶性無(wú)機物的氫銨水解化學(xué)變化將造成更多的苯并呋喃、丁酸等集體性亞胺和大量的一水解碳。

近NA來(lái)，輕工業(yè)城鎮造成一水解碳安非他命的不利因素之一是誤用磁和一水解碳生產(chǎn)UV光催化水解電子設備。雖然兩種類(lèi)別的電子設備正在試圖把空氣中的氮氣變成一水解碳通過(guò)化學(xué)化學(xué)變化在輕工業(yè)尾氣排氣管處置電子設備控制技術(shù),但雖然化學(xué)變化條件的限制,造成一水解碳成陰離子和氙和的效率低,與此同時(shí)雖然化學(xué)變化速度太長(cháng),導致電子設備機械故障造成的臭氧直接排放水溶性無(wú)機化合物的科學(xué)儀器。而光氧所采用的不銹鋼容易損毀，后期要頻繁更改不銹鋼。

催化劑熔化電子設備的生產(chǎn)流程及應用領(lǐng)域范圍

粘附高純度-再造式催化劑熔化電子設備(RCO)由3-7TA-I模塊粘附劑組成，可用于與此同時(shí)粘附或D立吸附作業(yè)，將雷電量低濃度的無(wú)機尾氣高純度成新網(wǎng)絡(luò )流量低濃度的無(wú)機尾氣。將高純度的低濃度液體連接到再造式催化劑熔化電子設備上展開(kāi)水解處置(高溫吹脫熔化)，即對粘附金屬材料的助劑展開(kāi)再造，恢復其粘附性能。再造操作方式不能與此同時(shí)進(jìn)行，只有一個(gè)粘附器能與此同時(shí)展開(kāi)水煤氣操作方式。該處置工藝可廣泛應用領(lǐng)域于石油、化工、橡膠、噴漆、噴漆、紅木家具、家電、印刷品等行業(yè)造成的低濃度無(wú)機尾氣的再生?？商幹玫臒o(wú)機物質(zhì)類(lèi)別包括苯、酮、醇、醚和烴等。

催化劑熔化設備特點(diǎn):

1、耗電低，雖然床層空氣阻力小，擾動(dòng)壓縮機能工作，耗電少，噪聲低。

3.對于吸收無(wú)機尾氣的活性炭層，利用催化劑熔化后的尾氣展開(kāi)水煤氣再造，粘附后的液體送進(jìn)催化劑熔化室展開(kāi)再生，運行效率高，節能環(huán)保。

4. 結構簡(jiǎn)單，更穩定，節能環(huán)保，無(wú)滲漏。電子設備占地小，體積小。